Si3N4 窒化ケイ素セラミックス

Si3N4はアルミナや炭化ケイ素より優れた機械強度を持ち、かつ耐熱衝撃に優れる唯一の特性をもつ材質です。

高温領域での強度を求められる部品に用いられています。

特長

• • 破壊靱性が高い
  • 高温領域での強度と信頼性
  • 耐熱衝撃
  • 低熱膨張
  • 絶縁性（10¹⁴Ωcm 以上）
  • 高強度
  • ジルコニア、アルミナより軽量
  • 耐食性
  • 他社と比べて短納期が可能

  用途

  • 高温領域で使用される部品
  • 熱衝撃がかかる部品
  • ジルコニアの軽量化

  材料への要求と合わせてお気軽にお問合せください。

事例紹介

Si3N4 窒化ケイ素セラミックス　ピン・シャフト・ブロック

Si3N4はアルミナや炭化ケイ素より優れた機械強度を持ち、かつ耐熱衝撃に優れる唯一の特性をもつ材質です。高温領域での強度を求められる部品に用いられています。 詳しくはこちら

標準サイズ窒化ケイ素Si3N4基板 薄板

シート成形による薄板、窒化ケイ素セラミックス基板です。 電気自動車、クリーンエネルギー等を普及するため,パワー半導体は小型軽量化、高出力化に優れた特性を持ち、アルミナ基板、アルミニウム基板に代わる窒化珪素基板が注目されています。                  詳しくはこちら

窒化ケイ素粉砕ボール

特徴 高靭性 耐腐食性 耐摩耗性   高強度を有する非酸化物セラミックスの微粉砕や、半導体分野でのガラスフリットの微粉砕など、アルミナやジルコニアボールと比較し、粉砕効率に優れ、マイルドな条件で、分散が可能である。 詳細はこちら

鏡面の窒化ケイ素（Si3 N4）基板

窒化ケイ素の基板です。片面を鏡面にしました。 ザイズ：□100×0.25t　+0／-0.01 面粗さ：片面鏡面　Ra 0.03 熱伝導率(m.k)：≧80 反り：0.3％ 長さに対して 詳細はこちら