半導体・液晶製造装置用/ソーラー用 セラミックス

 

半導体・液晶製造装置用/ソーラー用セラミック製品

半導体製造装置には、高剛性・加工精度・耐震性・耐熱性・熱伝導率・表面処理精度・メタルコンタミネーション・耐薬液性・耐ガス性・耐プラズマ性・絶縁性・誘電率・誘電正性・体積抵抗率・低発塵(パーティクル)・コスト等の諸特性が求められます。
西村陶業は上記の特性に対応出来るセラミックスとして高純度アルミナ(Al₂O₃ 99.7%以上、Al₂O₃ 99.9%以上)、窒化アルミ(ALN)、イットリア(Y₂0₃)を提唱します。

高純度アルミナは、その特性により搬送アーム、ウエハーステージ、RF高周波透過窓、等に使用されています。またメタライズ性に優れた特長を発揮します。
窒化アルミは熱伝導性・放熱性・耐熱衝撃性・電気絶縁性に優れており、熱膨張率がシリコンウェハーに近いという特性もあります。
イットリアは耐プラズマ性に大変優れた素材です。

事例紹介

ダミーウェハー（ALN・アルミナセラミックス）

高純度ALN（助剤レス）、高純度アルミナ製ダミーウェハーを製造販売しております。 サイズ：12インチまで対応可能                    詳細はこちら

ジルコニアφ0.1　細穴パイプ

ジルコニアの押し出し成形でパイプを作りました。中央にφ0.1の穴が開いたパイプです。 詳細はこちら

耐プラズマCVD用ベルジャー　材質N-999S

半導体製造装置用にプラズマによる磨耗に強い、高純度アルミナ99.9％（N-999S）材料で製作しました。 詳細はこちら

アルミナ　N-999S　チューブ

アルミナ99.9％（N-999S）で曲がりの少ないパイプを製作しました（サイズ：φ10 ＋0／－0.05×φ8 ＋0.1／0×350L）。 内径研磨仕上げ無しで反り0.2mm以下で成型し焼き上げました。                                  詳細はこちら

修正リング（修正板リング）

修正リング（修正板リング） ケンマ盤の定盤修正用リングです。アルミナ99.7％製ご要望に合わせたサイズ、形状、精度で製造可能です。 詳細はこちら

耐プラズマ用セラミックスU字管

アルミナ99.7％製のU字管が半導体製造装置に耐プラズマ保護管として採用されています。 詳細はこちら

耐プラズマ保護カバー

西村陶業の透光性アルミナN‐9000NSが、半導体製造装置用の耐プラズマ用保護カバーとして採用されています。 詳細はこちら

耐プラズマ用エルボ

高純度アルミナ製、耐プラズマ用の２分割エルボです。 組み立て可能な形状になっています。 詳細はこちら

高純度アルミナN－99製(アルミナ99.7％以上)　半導体製造装置用部品

高純度アルミナN－99製(アルミナ99.7％以上)の製品が半導体製造装置用部品として採用されています。 詳細はこちら

プラズマガスシャワーヘッド用セラミックス（シャワーノズル）

西村陶業では焼結前加工法（生加工）によりノズル/シャワーヘッド型のセラミック製品を生産、販売しております。プラズマガスシャワーノズル(シャワーヘッド）として多くのお客様に採用して頂いております。 詳細はこちら

ボンディングツール用アタッチメント ALN、Sicセラミックス

窒化アルミ ALNと炭化ケイ素 Sicのボンディングツール用アタッチメントです。熱伝導率の高いセラミックスを使っています。 詳細はこちら