Si₃N₄セラミック(窒化ケイ素)ダミーウエハー 耐衝撃・耐熱性
表面粗さRa0.2 両面鏡面研磨品 Ra0.05 高強度・耐衝撃性に優れたSi₃N₄セラミック(窒化ケイ素)ダミーウエハーです。 機械的強度と耐熱衝撃性が求められる半導体製造工程に最適で、長寿命と高信頼性を[…..]
表面粗さRa0.2 両面鏡面研磨品 Ra0.05 高強度・耐衝撃性に優れたSi₃N₄セラミック(窒化ケイ素)ダミーウエハーです。 機械的強度と耐熱衝撃性が求められる半導体製造工程に最適で、長寿命と高信頼性を[…..]
窒化ケイ素の基板です。片面を鏡面にしました。 ザイズ:□100×0.25t +0/-0.01 面粗さ:片面鏡面 Ra 0.03 熱伝導率(m.k):≧80 反り:0.3% 長さに対して 関連ページ 材質別一[…..]
